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[VIP第4年] 指数:1
CEW-1000A型微机控制荧光磁粉探伤机
产品概述：
该设备为微机控制半自动磁粉探伤设备，它根据磁粉探伤原理，按照JB/T8290－1998《磁粉探伤机》标准及双方签订的技术协议要求制造。它以小型工业可编程序控制器（PLC）为核心对系统的机械程序动作如夹紧、喷洒磁悬液、磁化、旋转观察、退磁等进行控制，能按规定程序完成除上、下料、观察以外的全部探伤过程，既可自动操作，又可手动单步操作，所有程序动作的时间，随时根据需要自行适当调整。该机还配有漏检报警系统，当磁化电流达不到规定指示值或无有效电流通过时，自动停机，并发出报警信号，从而避免了工件在探伤过程中的漏检现象，其磁化电源分为交流电源与直流电源，原理如下：1.交流电源主电路采用了目前通用的可控硅无节调压技术，利用三相交流电互成120度相位差的原理，周向采用通电法，纵向采用线圈法，将磁化电流施加到被探工件表面进行磁化，从而检查出工件表面及近表面因锻压、淬火、研磨、疲劳而引起的裂痕及夹渣等细微的缺陷，还可对工件分别进行单周向和单纵向磁化，其磁化电流分别可调，均带断电相位控制功能，在工件单方向磁化时，既可用连续法又可用剩磁法探伤；2.直流电源主电路采用晶闸管带平衡电抗器双反星型结构，单相半波整流，具有电流较平滑，工作噪音小，输出功率大，能检测工件表面下较深的缺陷，磁化电流连续可调等优点。该机属分立式组合型结构，主要包括：直流磁化电源控制柜、交流磁化电源、磁化夹持装置（主机）、旋转（观察）机构、磁悬液喷洒及回收系统、紫外灯、暗室系统等几部分组成。其工艺流程为：人工上料－夹紧、喷洒、转动－喷洒、磁化－磁化－转动观察－退磁－松夹－人工下料。
主要技术要求：
1、交流磁化电流：AC0-1000A（有效值）数字显示，连续可调，带断电相位控制；
2、直流磁化电流：DC0-16000AT（单相半波平均值）数字显示，连续可调；
3、磁化线圈尺寸：内直径￠200mm,5匝；
4、退磁效果：交流退磁后的最大剩磁不大于0.3mT，
半波直流采用交流衰减式退磁，最大剩磁不大于0.5mT；
5、电极间距：0－500mm可调；
6、磁化方式：周向、纵向、复合磁化三挡
a、纵向直流磁化，
b、周向交流磁化；
7、转动方式：电动同步旋转；
8、夹持方式：气动夹紧，气压≥0.4MPa可调（气源用户自备）；
9、夹紧行程：50mm双向；
10、紫外线强度：距工件380mm处，紫外线强度≥1000μW/cm2；
11、探伤灵敏度：交流采用A型2#试片清晰显示；
12、微机控制动作时序：由微机自动控制，并可根据被探工件工艺要求重新编制工作程序；
13、电源：三相四线380V/50Hz，约100A。
